한성숙(사진) 국무총리는 1일 정부서울청사에서 ‘해외 기술유출 방지대책 회의’를 열고 관계부처의 대응 현황과 제도 개선 필요사항을 논의했다.
중앙일보는 최근 기획 보도를 통해 중국 1위 메모리 반도체 업체인 창신메모리(CXMT)의 한국 반도체 기술 확보 시도와 삼성전자·SK하이닉스 출신 인력을 겨냥한 영입 실태를 추적했다. 또한 기술유출 사건의 처벌 및 수사 과정에서 드러난 한계도 다뤘다. 〈중앙일보 9월29·30일자 1면〉
한 총리는 “첨단기술을 해외로 유출하여 막대한 이익을 얻고도 처벌은 그에 미치지 못한다는 인식이 생겨서는 안 된다”며 유출 행위에 상응하는 책임이 뒤따르도록 처벌의 실효성을 강화하라고 주문했다. 또 “핵심 산업기술이 해외로 유출된다면 우리 산업의 경쟁력과 국가 경제안보에 상당한 영향을 미칠 수 있다”며 기술보호 제도의 현장 작동 여부를 면밀히 점검해 달라고 당부했다.
회의에서는 기술유출 징후를 조기에 포착하기 위한 관계기관 간 정보 공유와 수사 공조, 해외 사건 대응을 위한 국제 공조 방안 등을 논의했다. 기업·대학의 연구개발 과정에서 축적되는 기술과 방산 분야 핵심기술 등이 관리 사각지대에 놓여 있지 않은지도 점검했다.
정부는 예방·적발·수사·처벌 전 과정의 제도 보완 필요성을 검토해 개선안을 마련할 계획이다.